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摘要：在当今半导体行业，光刻机作为制造芯片的核心设备，具有举足轻重的地位。随着科技的不断进步，光刻机技术也在持续发展，为半导体产业的繁荣提供了强大支撑。光刻机是一种将设计好的图案通过光学手段复制到芯片表面的精密设备。它利用光线在光刻胶上曝光，使... 在当今半导体行业，光刻机作为制造芯片的核心设备，具有举足轻重的地位。随着科技的不断进步，光刻机技术也在持续发展，为半导体产业的繁荣提供了强大支撑。光刻机是一种将设计好的图案通过光学手段复制到芯片表面的精密设备。它利用光线在光刻胶上曝光，使得光刻胶发生化学反应，从而形成图案。光刻机主要由光源、光学系统和机械系统三部分组成。光源提供光线，光学系统控制光线照射到芯片上，机械系统确保曝光过程中的精确移动。 机构研报指出，光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。同时美国对中国先进制程设备和技术围追堵截，光刻机处于核心“卡脖子”状态。产业本土化趋势下，制造环节先行，我们认为国产高端光刻机的发展有望获得推动，光刻机及半导体设备产业链将有望同步受益。 在次，经过复盘和分析精选了几家“光刻机”核心龙头企业： 第一家：炬光科技 公司多年来一直为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件——光场匀化器，供应给世界顶级光学企业A公司，最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备。 第二家：富乐德 公司已研发并量产半导体14nm制程洗净工艺、储备的半导体7nm部品清洗工艺已较为成熟。公司为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备提供精密洗净服务。 第三家：美埃科技 公司系Intel、 ST Microelectronics 等国际半导体厂商的合格供应商，为其提供空气净化产品。公司在前述产品核心技术指标、客户信赖度等方面，可与国际品牌平行竞争，处于国内品牌领先的地位。 第四家：腾景科技 公司合分束器项目应用于光刻机光学系统，可满足国产替代进口的需求。 第五家：蓝英装备 公司精密清洗设备面向的高端芯片制造行业企业客户包括光刻机制造企业的合资(参股)公司，该客户负责制造光刻机的核心光学系统。 |
